磁控溅射设备厂家服务放心可靠「沈阳鹏程」

楼主:沈阳鹏程  时间:2021-06-24 05:35:33
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磁控溅射设备厂家服务放心可靠「沈阳鹏程」[沈阳鹏程c8b0940]

光纤磁控溅射镀膜机组成

以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供,希望对同行业的朋友有所帮助。

设备用途:

在光纤表面镀制纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。配有阳极层离子源进行清洗和辅助沉积,同时设备具有反溅射清洗功能,以提高膜的质量和牢固度。样品台可镀制多种型号光纤产品

系统主要由真空室、磁控靶、单基片加热台、直流电源、射频电源、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。

磁控溅射的工作原理

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磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,而产生的二次电子会受到电场和磁场作用,产生E(电场)×B(磁场)所指的方向漂移,简称E×B漂移,其运动轨迹似于磁控溅射一条摆线。磁控溅射“磁控反应”介绍磁控反应溅射绝缘体看似容易,而实际操作困难。若为环形磁场,则电子就以似摆线形式在靶表面做圆周运动,它们的运动路径不仅很长,而且被束缚在靠靶表面的等离子体区域内,并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材,从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加,二次电子的能量消耗殆尽,逐渐远离靶表面,并在电场E的作用下沉积在基片上。由于该电子的能量很低,传递给基片的能量很小,致使基片温升较低。

磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程,和靶原子碰撞,把部分动量传给靶原子,此靶原子又和其他靶原子碰撞,形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附的靶原子获得向外运动的足够动量,离开靶被溅射出来。

磁控溅射“磁控反应”介绍

磁控反应溅射绝缘体看似容易,而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面,也发生在阳极,真空腔体表面以及靶源表面,从而引起灭火,靶源和工件表面起弧等。配有阳极层离子源进行清洗和辅助沉积,同时设备具有反溅射清洗功能,以提高膜的质量和牢固度。德国莱宝发明的孪生靶源技术,很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极,从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是一切源(磁控,多弧,离子)所必需,因为能量很大一部分转为热量,若无冷却或冷却不足,这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。

沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首 ,服务至上为宗旨。公司生产、销售磁控溅射产品,公司拥有强大的销售团队和经营理念。想要了解更多信息,赶快拨打图片上的热线电话!

自动磁控溅射系统有哪些特点?

沈阳鹏程真空技术有限责任公司生产、销售磁控溅射产品,我们为您分析该产品的以下信息。

自动磁控溅射系统产品特点:

不锈钢腔体

晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率

带观察视窗的腔门易于上下的载片

基于LabView软件的PC计算机控制

带密码保护功能的多级访问控制

完全的安全联锁功能

预真空锁以及自动晶圆片上/下的载片

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